北京化工大学孙晓明团队Chem:小于2 nm厚度稳定的铝纳米片的合成与性能—氧钝化和双光子发光
【引言】
铝是地壳中含量最丰富的金属,在光学、电子学、涂层、储能等领域有着广泛的应用。铝的光电性能在纳米尺度上高度可调,使得铝纳米结构的可控合成意义重大,尤其在光学应用方面。例如,光刻和蒸发制备的铝纳米棒和纳米盘的局域表面等离子体共振(LSPR)可随着长径比的增加,从深紫外区到可见区(近600纳米),具有作为低成本等离子体材料的巨大潜力。然而,尽管具有这些优异的性质,铝基超薄(<2 nm)纳米结构尚未获得。常用的制备方法包括激光烧蚀、爆炸丝、和气体蒸发,主要产生球形颗粒。另一方面,铝的湿化学合成是一种替代性的制备方法,但产物也多为亚微米多面体或球形颗粒。氧在化学气相沉积方法制备Si等半导体纳米材料的尺寸和形貌方面具有重要的作用,但是在还原性纳米材料(例如,CdSe或Co)的湿化学合成中通常是不希望有氧的,并且由于其高氧化电位而被排除,因为氧的存在可能干扰反应体系。贵金属(如Au、Ag、Pt、Pd、Rh及其合金)可以在温和环境条件下合成,但不同的是铝具有更强的活性,比Ni或Co更强(铝的标准氧化还原电位是1.66 V),因此合成铝需要更强的还原气氛。并且在合成Al的湿化学合成中,所得的纳米尺寸的Al颗粒具有高度的反应性和不稳定性,常具有约2~4 nm的表面氧化物层。
【成果简介】
近日,北京化工大学孙晓明团队(通讯作者)联合中科院理化所、英国拉夫堡大学、美国Brookhaven国家实验室在国际著名期刊Chem上发表了一篇关于稳定氧化铝薄层的研究工作,文章题目为“Synthesis and Properties of Stable Sub-2-nm-ThickAluminumNanosheets:Oxygen Passivation and Two-Photon Luminescence”。在本研究中,研究者使用非质子性的均三甲苯溶液,在过量氧气存在下,研究了超薄铝纳米片的湿化学合成,其中面心立方(fcc)Al的(111)面上的选择性氧吸附是控制金属Al纳米片定向生长的关键,可以将厚度从18纳米减至1.5纳米。通过氧的优先表面钝化,制备的铝纳米片在周围环境中也具有令人满意的稳定性,并且通过在纳米尺度上对尺寸和维度的调整,铝纳米结构厚度依赖的LSPR可以从可见调控到近红外区域,以及等离子体增强双光子发光(TPL)。这种小于2nm厚度铝纳米片的合成为光学性能研究提供了新的等离子体材料,更重要的是,本研究所探索的新型合成策略,包括在湿化学过程中氧调制的厚度控制,可为其他高活性非贵金属纳米结构的探索与合成提供参考。
【图文简介】
图1铝纳米片的合成工艺及表征示意图
(A) Al纳米片的湿化学合成包括成核、生长和组装三个阶段;
(B和C)柔性超薄铝纳米片的SEM和TEM图像;
(D) 单张铝片的电子衍射图样;
(E-G)对单个铝片的TEM分析,其中(F)显示边缘有轻微褶皱的纳米片,(E)显示褶皱边缘的放大图像显示其超薄厚度,(G)显示其典型的fcc Al金属二维晶格的HRTEM图像。
图2不同厚度的铝纳米片
不同氧浓度制备的三种典型铝纳米片的SEM、TEM和HRTEM图像:(A-C)15 vol%,(D-F)20 vol%和(G-I)50 vol%。
图3晶体结构表征
(A) 新制备的铝纳米片(黑线)、6-nm厚的纳米片(蓝线)和2-nm厚的纳米片(红线)在环境中储存1周后的XPS光谱。在测量铝之前,以硅膜为标准验证了0.5nm的精确刻蚀深度;
(B) 2-nm厚Al纳米片存放1周后的Al3+-XPS深度分布;
(C) 三种典型厚度的铝纳米板(2、6和18nm)和大块铝的对分布函数(PDF)。(d)具有极有限氧化层的铝纳米片的晶格膨胀示意图。
图4制备的铝纳米片的光学性能
(A) 单铝纳米片的实验和模拟暗场散射光谱。插图显示了样品的暗场散射图像;
(B) 三种典型厚度的Al纳米片的TPL光谱:2nm、6nm和18nm,以及长径比为4的Au纳米棒和Al2O3纳米粒子作为参比,激发波长设置为800nm;插图:光路中样品的数码相机图像。
【小结】
总之,本文开发了一种简便易行的湿化学方法,在富氧环境下制备亚2nm超薄铝纳米片,通过改变氧含量,可将铝纳米片的厚度从18nm调整到亚2nm。通过结构分析和计算,发现fcc-Al(111)面上的选择性氧吸附是定向生长、厚度调整和具有高稳定性的关键。本研究还发现,利用不同的长径比,在可见-近红外区调谐面内偶极表面等离子体共振,可以实现TPL,显示出巨大的性能操控潜力。氧辅助合成方法还具有应用于其他纳米金属的潜力,在探索具有独特性质的新型纳米结构方面显示出巨大的潜力。
文献链接:Synthesis and Properties of Stable Sub-2-nm-Thick Aluminum Nanosheets: Oxygen Passivation and Two-Photon Luminescence, 2019, Chem, DOI: 10.1016/j.chempr.2019.11.004.
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